二次电子像

更新时间:2023-03-28 21:23

物质原子核外电子受到入射电子作用产生激发,

二次电子的特点

(1)能量小于50eV,在固体样品中的平均自由程只有10~100nm。在这样浅的表层里,入射电子与样品原子只发出有限次数的散射,因此基本上未向侧向扩散;

(2)二次电子的产额强烈依赖于入射束与试样表面法线间的夹角a , a大的面发射的二次电子多,反之则少。

二次电子成像

二次电子像主要是反映样品表面10nm左右的形貌特征,像的衬度是形貌衬度,衬度的形成主要取于样品表面相对于入射电子束的倾角。

如果样品表面光滑平整(无形貌特征),则不形成衬度;而对于表面有一定形貌的样品,其形貌可看成由许多不同倾斜程度的面构成的凸尖、台阶、凹坑等细节组成,这些细节的不同部位发射的二次电子数不同,从而产生衬度。

二次电子像分辨率高、无明显阴影效应、场深大、立体感强,是扫描电镜的主要成像方式(特别适用于粗糙样品表面的形貌观察),在材料及生命科学等领域有着广泛的应用。

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