通常用的光致抗蚀剂有：①聚肉桂酸酯型，例如聚乙烯醇肉桂酸酯，由聚乙烯醇和肉桂酰氯在吡啶溶剂中合成，配制的光刻胶称KPR。在紫外线作用下,肉桂酸酯的双键发生光化学二聚反应，形成交联，转变为不溶性物质。KPR是最早用于光刻的一种光致抗蚀剂,通常加入5－硝基苊等作为光敏剂。②丙烯酰基型,其线型聚合物不能得到优良的图像，所以实用体系都由预聚体和单体组成，同时进行聚合和交联。通常交联单体和预聚体是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯酰胺和丙烯酸氨基甲酸酯类。例如，由这类单体交联剂制成的聚酯和尼龙感光树脂版，已能用来代替铜、锌凸版。③叠氮型，叠氮化物光解，生成活泼的一价氮化物,很容易偶合或与碳-氢键、双键反应。用于光敏树脂的叠氮化物均为稳定的芳族化合物。双叠氮化合物是一种光交联剂(如下式所示)，能引起许多高聚物交联。 例如叠氮-环化橡胶就是一种常用的光致抗蚀剂。④重氮盐类和邻偶氮醌型光敏高分子，也是常见的光致抗蚀剂。