更新时间：2022-07-24 22:51
气体分配装置包括上中下三层分配板，三层分配板之间形成两条相互隔离的气体输送路径，该两条气体输送路径完全隔离，容易反应的气体因此可以通过不同的输送路径进入等离子体处理设备的反应腔室，有效避免了容易反应的气体在气体分配装置中的接触，进而完全消除了气体在进入反应腔室之前发生反应的可能。同时，由于上述两条气体输送路径相交错，自不同输送路径进入反应腔室的两路气体可以实现较为充分的混合。
一种气体分配装置，包括：进气板、嵌入式分配板和下分配板；其中，所述进气板设有进气通路、以及与进气通路连通的容置部，所述嵌入式分配板嵌入容置部内；所述嵌入式分配板具有分配通路并且与容置部之间具有间隙；下分配板位于进气板的下面，将嵌入式分配板封装在所述容置部内。相应的，本发明还公开了一种采用所述气体分配装置的等离子体处理设备。所述的气体分配装置结构简单，对加工精度的要求较低，能够降低制造成本