更新时间：2023-11-20 23:17
布图设计专有权的取得方式通常有以下三种：登记制；有限的使用取得与登记制相结合的方式；自然取得制。关于布图设计权的保护期，各国法律一般都规定为10年。根据《关于集成电路的知识产权条约》的要求，布图设计权的保护期至少为8年。《知识产权协议》所规定的保护期则为10年。我国《集成电路布图设计保护条例》第十二条规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受该条例保护。
以上图表可以看出，布图设计专有权与著作权相比更具有工业实用性，这是一般著作权作品不具有的；同时其独创性又是一般专利产品不具有的，而且又允许反向工程，具有其自身特征。从保护期限看，也仅有10 年，且创作完成15 年后将不受保护，符合其技术更新较快的特点。特别值得指出的是，条例允许“平行进口”。
根据条例第24 条规定，“受保护的布图设计… ，由布图设计权利人或者经其许可投放市场后，他人再次商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，并不向其支付报酬。”而按照条例第2 条规定，商业利用是指“为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计… 的行为”。从而，按照条例的规定，只要布图设计合法投放市场后，权利在全世界用尽，可以不经再次许可而进口、销售等。