更新时间：2023-01-16 22:06
非平衡磁控溅射是2011年公布的材料科学技术名词。
磁控靶边缘的磁力线呈发散状直达基底表面，在基底表面形成大量离子轰击，直接干预基底表面溅射成膜的过程。
《材料科学技术名词》。